4月17日，中微公司披露2019年年度報告。期內，公司實現營收19.47億元，同比增長18.77%;歸屬于上市公司股東的凈利潤1.89億元，同比增長107.51%，利潤倍增。

    刻蝕設備在“芯”中的重要角色

    當天公司舉行了線上業(yè)績說明會，公司董事長、總經理尹志堯、董事會秘書、副總裁劉曉宇、財務負責人、副總經理陳偉文出席。

    “長期以來，公司一直致力于打造具有國際競爭力的產品并進行多元化產品布局。”尹志堯表示。在設備的研發(fā)、設計和制造中，公司重視核心技術、產品創(chuàng)新及知識產權保護，始終強調技術先進性、創(chuàng)新、差異化和服務。

    提及刻蝕設備行外人可能不了解是什么。60年來從電子計算機到智能手機-微觀器件加工面積縮小了一萬億倍，而半導體設備的創(chuàng)新和進步就是實現這個萬億倍縮小的關鍵。在這個環(huán)節(jié)中最重要的就是加工微觀結構的光刻機和等離子刻蝕機。

    換言之，256G手機回到50年前，相當于5層樓?是200萬棟5層樓。1950S-128K毫米級計算機通過光刻機以及刻蝕設備對芯片微觀結構的調整縮小100萬倍相當于1980S-128K微米級集成電路元件。通過不斷的技術創(chuàng)新再縮小100萬倍就相當于2010S-128G納米級集成電路元件。

    參股具有協(xié)同效應潛力項目

    據悉，中微公司的等離子體刻蝕設備已應用在國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米的集成電路加工制造生產線及先進封裝生產線。公司的MOCVD設備在行業(yè)領先客戶的生產線上大規(guī)模投入量產，公司已成為世界排名前列的氮化鎵基LED設備制造商。

    根據2019年美國半導體產業(yè)咨詢公司VLSIResearch對全球半導體設備公司的“客戶滿意度”調查和評比報告，中微公司綜合評分保持全球第三，并在芯片制造設備專業(yè)型供應商和專用芯片制造設備供應商評比中均名列第二，同時，全球晶圓制造設備商評級為五星級公司僅有五家，中微公司是其中之一。

    “公司在今后的十年將采取三個維度的發(fā)展策略。公司計劃繼續(xù)通過有機生長，在不斷開發(fā)新的產品，不斷提高市場占有率的同時，將在適當時機，通過投資、并購等外延式生長途徑，擴大產品和市場覆蓋。力爭在未來十年內，發(fā)展成為在規(guī)模上和市場占有率上成為國際一流的半導體設備公司。”尹志堯表示。

    第一個維度是從目前的等離子體刻蝕設備，擴展到化學薄膜設備，和刻蝕及薄膜有關的測試等關鍵設備。第二個維度是，擴展在泛半導體設備領域的產品，從已經開發(fā)的用于制造MEMS和CIS影像感測器的刻蝕設備、制造藍光LED的MOCVD設備，擴展到更多的微觀器件加工設備，及制造深紫外LED、Mini-LED、Micro-LED等微觀器件的設備產品。第三個維度是探索核心技術在環(huán)境保護、工業(yè)互聯(lián)網等領域，以及在國計民生上的新的應用。

    據介紹，目前，中微公司同時兼顧外延性發(fā)展，子公司中微匯鏈、中微惠創(chuàng)在新業(yè)務拓展領域取得了積極的進展。此外，公司也參股投資了一些具有協(xié)同效應潛力的項目。

    值得一提的是，公司創(chuàng)始人尹志堯在半導體芯片和設備產業(yè)有超過30年的行業(yè)經驗，是國際等離子體刻蝕技術發(fā)展和產業(yè)化的重要推動者之一。公司其他聯(lián)合創(chuàng)始人、核心技術人員和重要的技術、工程人員，包括杜志游、倪圖強、麥仕義等各專業(yè)領域的專家，其中很多是在國際半導體設備產業(yè)耕耘數十年，為行業(yè)發(fā)展做出杰出貢獻的資深技術和管理專家。

    “刻蝕是半導體生產流程的重要環(huán)節(jié)，設備國產化對于半導體國產替代不可或缺。但是刻蝕設備屬于技術高度密集型產品，目前國內外的產品技術還是有一定差距的。”香頌資本執(zhí)行董事沈萌分析道。

    資深投行人士王驥躍在接受《證券日報》記者采訪時表示，“中微公司的上市有利于其自身發(fā)展，也有利于國內產業(yè)發(fā)展，技術進步才能減少對外依賴，減少‘卡脖子’的事發(fā)生。”

(劉會玲)